证券之星音书，依据企查查数据显示四方达（300179）新取得一项发觉专利授权，专利名为“一种非平面PDC表观掷光装备”，专利申请号为CN0.3，授权日为2024年7月5日。

　　专利摘要：本发觉涉及超硬质料PDC技能界限，的确为一种非平面PDC表观掷光装备，包含动力组件和掷光组件，所述掷光组件包含料仓、端盖和拉杆；料仓两头开设有料仓腔体，两料仓腔体端部均通过端盖配合密封圈封堵，且两头盖之间设有与料仓中段预设的通孔间隙配合的拉杆，拉杆的一端穿过对应的端盖后与动力组件贯穿；料仓中段于拉杆上方开设有活动通道，活动通道顶部的料仓上开设有掷光孔，活动通道连通两料仓腔体且活动通道的内径幼于两料仓腔。本发觉倚赖掷光料的来回挤压式转移，对PDC表观变成摩擦，以抵达PDC表观的掷光成果。

　　本年以还四方达新取得专利授权42个，较昨年同期添加了27.27%。联结公司2023年年报财政数据，2023年公司正在研发方面加入了6296.03万元，同比减1.93%。

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　　证券之星估值理解提示四方达剩余才干较差，将来营收获长性普通。归纳基础面各维度看，股价合理。更多

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